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德国ZESTRON ATRON AP 125A碱性水基清洗剂
2025-10-11 15:58  浏览:11
 

ATRON® AP 125A

 

用于先进封装的碱性水基除助焊剂清洗剂

nce="true" style="box-sizing: border-box; transform: perspective(2500px) rotateY(0deg); backface-visibility: hidden; transition-property: transform; transition-duration: 0.9s; transition-timing-function: cubic-bezier(0.25, 0.25, 0.75, 0.75); transition-delay: 0.3s;">
助焊剂清洗剂

ATRON® AP 125A是一款水基型清洗剂，专门研发用于去除各种封装类产品的水溶性助焊剂，如倒装芯片，包括2.5D/3D TSV堆叠、BGA和SiP等，同时能为底部填充、引线键合和注塑成型等后道工艺提供绝佳的表面条件。该清洗剂与敏感金属有高水准的材料兼容性，特别适用于低底部间隙和窄植球间距类产品清洗。推荐ATRON® AP 125A 应用于在线和离线喷淋式清洗工艺。

相较于其他清洗液的优势：

  • ATRON® AP 125A 对去除倒装芯片、BGA和SiP上的水溶性助焊剂有卓越的清洗效果
  • ATRON® AP 125A 在元器件底部极易漂洗，为底部填充、引线键合和注塑成型等后道工序提供最佳的状态，以此改善填充空洞、分层和键合质量
  •  ATRON® AP 125A 适用于带有低底部间隙(<50μm)、窄植球间距(<150μm) 以及极小植球(20-80μm)的封装器件
  • ATRON® AP 125A可与任何典型的封装材料兼容，特别是敏感金属，如铝、铜以及有机/无机的芯片钝化层
  • ATRON® AP 125A无闪点，为操作人员提供良好的健康和安全性保证
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